제 33회 한국반도체학술대회 KCS 2025::The 33rd Korean Conference on Semiconductors::

2026년 1월 27일(화)	4층		5층				6층				4층	5층		6층
	Room A	Room B	Room C	Room D	Room E	Room F	Room G	Room H	Room I	Room J	로비	로비		로비
	그랜드볼룸 I+II	그랜드볼룸III	컨벤션홀 W	에메랄드	사파이어	루비II	스페이드	하트	다이아몬드I	다이아몬드II	ZONE1	ZONE2		ZONE3
											ZONE1	1구역	2구역	ZONE3
											A,C,D,E	G,H,I,J,L	K,M,N,O,Q	B,F,P,T,U,V
13:00- 16:00	Short Course	Short Course	Short Course	nano-KISS (10:00-16:00)		[Invited Only] 국립금오공대- 영남대 반도체특성화 대학사업단 동반성장형 워크숍 (13:00-18:00)		강원대학교 반도체특성화 대학사업단 (09:00-18:00)	[Invited Only] 서강대학교 반도체특성화 사업단 동계 워크숍 (13:00-18:00)	성균관대학교 반도체특성화 대학지원사업단 워크숍 (이우근 교수님 초청 강연 16시) (13:00-18:00)	[SP] 학부생포스터세션 (공식발표시간: 16:00-18:00)
16:00- 18:00								강원대학교 반도체특성화 대학사업단 (09:00-18:00)	[Invited Only] 서강대학교 반도체특성화 사업단 동계 워크숍 (13:00-18:00)	성균관대학교 반도체특성화 대학지원사업단 워크숍 (이우근 교수님 초청 강연 16시) (13:00-18:00)	[SP] 학부생포스터세션 (공식발표시간: 16:00-18:00)
18:00- 20:00	학부생 토크콘서트 (컨벤션홀 K+W, 5층)

2026년 1월 28일(수)	4층		5층					6층			4층	5층		6층	5층	6층
	Room A	Room B	Room C	Room D	Room E	Room F	Room G	Room H	Room I	Room J	로비	로비		로비	세션룸 로비
	그랜드볼룸 I+II	그랜드볼룸III	컨벤션홀 W	컨벤션홀 L	에메랄드	사파이어	루비II	스페이드	하트	다이아몬드	ZONE1	ZONE2		ZONE3
											ZONE1	1구역	2구역	ZONE3
											E,F,M,T,U	Q,S	C,L,N	A,B,V
08:15-09:00	조식 (로비, 5층/6층)										[WP] 포스터세션 1 (공식발표시간: 17:30-19:00)				산학연 전시
09:00-10:45	구두세션01	구두세션02	구두세션03	구두세션04	구두세션05	구두세션06	구두세션07	구두세션08	구두세션09	구두세션10
09:00-10:45	WA1-D	WB1-K	WC1-D	WD1-J	WE1-E	WF1-K	WG1-A	WH1-G	WI1-F	WJ1-H
	High-k/Metal gate	NAND Flash	Memory Capacitors I	2차원 나노소재의 성장 및 물성 제어	Ultra Wide Bandgap Power Devices	IGZO	Advanced Package I	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability I	Advanced CMOS Applications	Thin film transistors for Displays I
10:45-10:55	휴식
10:55-12:40			구두세션11	구두세션12	구두세션13	구두세션14	구두세션15	구두세션16	구두세션17	구두세션18
			WC2-D	WD2-J	WE2-E	WF2-V	WG2-A	WH2-G	WI2-F	WJ2-H
			Memory Capacitors II	2D 반도체 기반 트랜지스터 및 디바이스	Wide Bandgap Power Devices	Quantum Technology I	Advanced Package II	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability II	Special Topics: Device Reliability/ Annealing Process	Photodiodes and image sensors
11:30-12:30	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 1부 (그랜드볼룸, 4층)
12:40-14:00	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 2부 (그랜드볼룸, 4층 / Room C(컨벤션홀L), 5층)
14:00-14:30	개회식 (컨벤션홀K+W, 5층)
14:30-15:10	기조강연1 (컨벤션홀K+W, 5층) 김형준 단장 (차세대지능형반도체사업단) AX를 위한 K-반도체의 여정
15:10-15:50	기조강연2 (컨벤션홀K+W, 5층) 박성현 대표 (리벨리온) AI 가속기 시장 현황과 개발 방향성
15:50-16:00	휴식
16:00-17:30	구두세션19	구두세션20	구두세션21	구두세션22	구두세션23	구두세션24	구두세션25	구두세션26	구두세션27	구두세션28
	WA3-M	WB3-K	WC3-I	WD3-R	WE3-E	WF3-C	WG3-S	WH3-G	WI3-F	WJ3-T
	RF and Wireless Design	Advanced Memory	MEMS and Sensor system I	R & O 분과 통합 세션 (부제: Semiconductor Software)	High Speed Devices and Circuits	Functional Membranes, Sensing, and Advanced Characterization	Chip Design Contest	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability III	Memory and Logic Devices for AI	Artificial Intelligence II
17:30-19:00	포스터세션 1 공식발표시간
17:30-19:00				삼성전자 미래기술육성사업 설명회 및 대표과제 소개
19:00-21:00	만찬 (컨벤션홀, 5F)

2026년 1월 29일(목)	4층		5층					6층			4층	5층		6층	5층	6층
	Room A	Room B	Room C	Room D	Room E	Room F	Room G	Room H	Room I	Room J	로비	로비		로비	세션룸 로비
	그랜드볼룸 I+II	그랜드볼룸III	컨벤션홀 W	컨벤션홀 L	에메랄드	사파이어	루비II	스페이드	하트	다이아몬드	ZONE1	ZONE2		ZONE3
											ZONE1	1구역	2구역	ZONE3
											G,I	D	O	H,K,R
08:15-09:00	조식 (로비, 5층/6층)										[TP] 포스터세션 2 (공식발표시간: 17:40-19:00)				산학연 전시
09:00-10:45	구두세션29	구두세션30	구두세션31	구두세션32	구두세션33	구두세션34	구두세션35	구두세션36	구두세션37	구두세션38
	TA1-D	TB1-B	TC1-D	TD1-K	TE1-J	TF1-K	TG1-C	TH1-G	TI1-F	TJ1-I
	Emerging Devices I	Patterning (Lithography)	Ferroelectrics I	NAND Flash	공정·계면·재료공학 기반 나노전자	Ferroelectric	Ferroelectricity and Complex Oxides	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability IV	Ferroelectric Device Technology	MEMS and Sensor system II
10:45-10:55	휴식
10:55-12:40			구두세션39	구두세션40	구두세션41	구두세션42	구두세션43	구두세션44	구두세션45	구두세션46
			TC2-D	TD3-E	TE2-J	TF2-K	TG2-C	TH2-T	TI2-Q	TJ2-H
			Ferroelectrics II	Optical and Other Device Technologies	광전자·포토닉 디바이스 및 센서	DRAM	BEOL & Semiconductor Integration Technologies	Artificial Intelligence I	Metrology, Inspection, Analysis, and Yield Enhancement I	Semiconductor photonics for displays and imagers
11:30-12:30	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 1부 (그랜드볼룸, 4층)
12:40-14:00	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 2부 (그랜드볼룸, 4층 / Room C(컨벤션홀L), 5층)
14:00-15:45	구두세션47	구두세션48	구두세션49	구두세션50	구두세션51	구두세션52	구두세션53	구두세션54	구두세션55	구두세션56
	TA3-D	TB2-B	TC3-D	TD3-K	TE3-P	TF3-C	TG3-N	TH3-G	TI3-F	TJ3-H
	Emerging Devices II	Patterning and Etch Materials	Thin Film Transistors I	Adv. Memory & Ferroelectric	Electrochemical Energy Device	2D vdW Semiconductors and Heterostructures	Advanced CAD for VLSI	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability V	GAA/CFET Device Technology and Design	Emerging displays and image sensors
15:45-15:55	휴식
15:55-17:40	구두세션57	구두세션58	구두세션59	구두세션60	구두세션61	구두세션62	구두세션63	구두세션64	구두세션65	구두세션66
	TA4-D	TB4-B	TC4-D	TD4-K	TE4-P	TF4-A	TG4-N	TH4-E	TI4-Q	TJ4-H
	Emerging Devices III	Advanced Etch	Thin Film Transistors II	Advanced Memory	전력반도체 소자	Advanced Package III	Machine Learning for Electronic Design Automation	Reliability and Radiation Hardness	Metrology, Inspection, Analysis, and Yield Enhancement II	Thin Film Transistors for Displays II
17:40-19:10	포스터세션 2 공식발표시간
17:40-19:10					기업체세션1	기업체세션2
19:10-21:10			럼프세션1	럼프세션2
19:10-21:10			미래 반도체 기술의 가치 창출	Beyond Chips: AI 반도체, 시스템과 서비스를 향한 진화

2026년 1월 30일(금)	4층		5층					6층			4층	5층		6층	5층	6층
	Room A	Room B	Room C	Room D	Room E	Room F	Room G	Room H	Room I	Room J	로비	로비		로비	세션룸 로비
	그랜드볼룸 I+II	그랜드볼룸III	컨벤션홀 W	컨벤션홀 L	에메랄드	사파이어	루비II	스페이드	하트	다이아몬드	ZONE1	ZONE2		ZONE3
											ZONE1	1구역	2구역	ZONE3
											J	K	K,P,A	A
08:15-09:00	조식 (로비, 5층/6층)										[FP] 포스터세션 3 (공식발표시간: 14:00-15:30)				산학연 전시
09:00-10:45	구두세션67	구두세션68	구두세션69	구두세션70	구두세션71	구두세션72	구두세션73	구두세션74	구두세션75	구두세션76
	FA1-D	FB1-B	FC1-D	FD1-K	FE1-J	FF1-K	FG1-A	FH1-G	FI1-Q	FJ1-I
	Advanced Thin Films and Growth Processes	Wet & Dry Etch Processes	Atomic Layer Deposition I	Advanced Memory	3D 집적·회로 기술 및 나노소자	Advanced Memory	Advanced Package IV	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability VI	Metrology, Inspection, Analysis, and Yield Enhancement III	MEMS and Sensor system III
10:45-10:55	휴식
10:55-12:40			구두세션77	구두세션78	구두세션79	구두세션80	구두세션81		구두세션82	구두세션83
			FC2-D	FD2-O	FE2-J	FF2-K	FG2-A		FI2-V	FJ2-U
			Atomic Layer Deposition II	R & O 분과 통합 세션 (부제: System LSI Design)	뉴로모픽·메모리 소재 및 시냅스 소자 기술	Advanced Memory	Emerging Interconnects?		Quantum Technology II	Sensors and Circuits for Biomedical and Biochemical Applications
11:30-12:30	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 1부 (그랜드볼룸, 4층)
12:40-14:00	원활한 점심운영을 위해 1부, 2부로 나누어 진행합니다.					점심 2부 (그랜드볼룸, 4층 / Room C(컨벤션홀L), 5층)
14:00-15:30	포스터세션 3 공식발표시간
15:30-16:00	폐회식 및 경품추첨 (컨벤션홀K, 5F)

분과
A	Interconnect & Package
B	Patterning (Lithography & Etch Technology)
C	Material Growth & Characterization
D	Thin Film Process Technology
E	Compound Semiconductors
F	Silicon and Group-IV Devices and Integration Technology
G	Device & Process Modeling, Simulation and Reliability
H	Display and Imaging Technologies
I	MEMS & Sensors Systems
J	Nano-Science & Technology
K	Memory (Design & Process Technology)
L	Analog Design
M	RF and Wireless Design
N	VLSI CAD
O	System LSI Design
P	Device for Energy (Solar Cell, Power Device, Battery, etc.)
Q	Metrology, Inspection, Analysis, and Yield Enhancement
R	Semiconductor Software
S	Chip Design Contest
T	AI
U	Bio-Medical
V	Quantum Technology

초청발표	30분 (발표 27분, 질의응답 3분)
구두발표	15분 (발표 12분, 질의응답 3분)

※ 구두발표 세션기호 보는 법
요일		세션룸		세션순서		분과
W	수요일	A	Room A	1	첫번째 세션	A	L
T	목요일	B	Room B	2	두번째 세션	B	M
F	금요일	C	Room C	3	세번째 세션	C	N
		D	Room D			D	O
		E	Room E			E	P
		F	Room F			F	Q
		G	Room G			G	R
		H	Room H			H	S
		I	Room I			I	T
		J	Room J			J	U
		K	Room K			K	V
		L	Room L

TA1-K	목요일 Room A에서 첫 번째 타임에 진행되는 K분과 구두세션
FN2-H	금요일 Room N에서 두 번째 타임에 진행되는 H분과 구두세션
SP	학부생포스터세션
TP	목요일 포스터세션
FP	금요일 포스터세션

Program at a Glance

Advance Program

제 33회 한국반도체학술대회

한국반도체산업협회/연구조합